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NSRL的同步辐射X射线深度光刻技术
【机构】 中国科学技术大学国家同步辐射实验室；
【摘要】 LIGA技术是制作MEMS的主要方法之一,而同步辐射X射线深度光刻是LIGA技术中最为关键的技术。本文利用合肥光源LIGA线站对同步辐射深度X射线曝光及显影工艺进行研究,获得了深度X射线曝光和显影的稳定工艺条件,得到高质量的光刻胶图形。
【基金】 国家自然科学基金资助项目(10375058)
- 【会议录名称】 光子科技创新与产业化——长三角光子科技创新论坛暨2006年安徽博士科技论坛论文集
- 【会议名称】长三角光子科技创新论坛暨2006年安徽博士科技论坛
- 【会议时间】2006-11-27
- 【会议地点】中国安徽合肥
- 【分类号】TN305.7
- 【主办单位】安徽省科学技术协会、中国科学技术大学