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新型MPCVD装置制备大面积CVD金刚石膜的研究
【机构】 武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室； 中国科学院合肥物质科学研究院等离子体所；
【摘要】 <正>金刚石膜高的硬度、热导率、载流子迁移率、化学稳定性等优异的物理化学性能使其成为极具发展前景的新型材料。由于各领域特别是军事领域对金刚石膜的沉积面积和质量不断提高,使得对制备大面积高质量CVD金刚石膜的装置和工艺参数进行设计和研究显得尤为重要。本研究利用新型微波化学气相沉积（Microwave Plasma Chemical Deposition,MPCVD）装置（10kW,2.45GHz）,进行了大面积CVD金刚石膜的制备研究。TM01与TM02两种模式的微波在新型MPCVD
- 【会议录名称】 第十五届全国等离子体科学技术会议会议摘要集
- 【会议名称】第十五届全国等离子体科学技术会议
- 【会议时间】2011-08-08
- 【会议地点】中国安徽黄山
- 【分类号】O484.1
- 【主办单位】中国力学学会等离子体科学与技术专业委员会、中国物理学会等离子体物理分会、中国核学会核聚变与等离子体物理学会、第十五届全国等离子体科学技术会议组委会