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双频容性耦合等离子体研究进展

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【作者】 姜巍毕振华李志成常大磊杨烁徐翔李小松陆文琪徐勇朱爱民王友年

【机构】 等离子体科学与工程中心 大连理工大学物理与光电工程学院

【摘要】 <正>双频耦合等离子体(dual-frequency capacitively coupled plasma,DF-CCP)源的主要特点是可以在低气压放电下产生大面积、高密度的均匀等离子体,尤其是这种放电技术可以独立地控制等离子体密度和入射到基片上的离子能量,即采用高频或甚高频(如60MHz)电源来控制等离子体密度,而低频(如2MHz)来控制离子能量分布。尽管这种DF-CCP源已经广泛地应用于介质刻蚀的生产线

【基金】 国家自然科学基金重点项目(10635010)资助课题
  • 【会议录名称】 第十四届全国等离子体科学技术会议暨第五届中国电推进技术学术研讨会会议摘要集
  • 【会议名称】第十四届全国等离子体科学技术会议暨第五届中国电推进技术学术研讨会
  • 【会议时间】2009-07-20
  • 【会议地点】中国辽宁大连
  • 【分类号】O53
  • 【主办单位】中国力学学会等离子体科学与技术专业委员会、中国物理学会等离子体物理分会、中国核学会核聚变与等离子体物理学会
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