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介质阻挡放电激发XeI*准分子紫外光源的实验研究

The experimental study on XeI* excimer UV light source stimulated by dielectric barrier discharge

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【作者】 李朝阳陈强代立新林辉创

【Author】 Li Chaoyang, Chen Qiang ,Dai Lixin, Lin Huichuang Plasma physics and material laboratory, Beijing Institute of Graphic Communication, Beijing, 102600

【机构】 北京印刷学院等离子体物理与材料研究室

【摘要】 采用石英做介质阻挡层,对高气压XeI*准分子紫外光源进行了实验研究,从放电功率、放电频率、总气压、气体配比等参数分析了光源的工作特性,其最佳工作参数为总气压320Torr、I2分压0.37%,电源频率58.7kHz。在此条件下当放电电压4.6kV、功率66W时,在距光源8.5cm处得到的紫外光辐射强度为31.2μW/cm2,结合石英管结构参数和放电条件,经计算获得的光源转化效率为2.2%。

【Abstract】 An experimental study on XeI* excimer UV lamp stimulated by dielectric barrier discharge (DBD) was investigated. By using quartz as dielectric barrier layer, the working parameters of this lamp were analyzed from the applied power, discharge frequency, total pressure and the ratio of mixture gases. The optimum condition came with total pressure 320Torr, 0.37% iodine ratio and 58.7kHz’s frequency. Under the applied voltage 4.6kV, power66W, an UV radiation intensity of 31.2μW/cm2 was obtained at the distance of 8.5cm from the quartz tube. Combining the configuration and injected power, we calculated the conversion efficiency of the lamp that was 2.2%.

【关键词】 介质阻挡放电准分子光源XeI转化效率
【Key words】 DBDexcimer light sourceXeIconversion efficiency
【基金】 北京市教委科技面上项目(KM200710015002);北京印刷学院青年基金(E-b20060021)支持
  • 【会议录名称】 第十三届全国等离子体科学技术会议论文集
  • 【会议名称】第十三届全国等离子体科学技术会议
  • 【会议时间】2007-08-20
  • 【会议地点】中国四川成都
  • 【分类号】TN23
  • 【主办单位】中国力学学会等离子体科学与技术专业委员会、中国核学会核聚变与等离子体物理学会、中国物理学会等离子体分会
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