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磁控溅射ZnO压电薄膜的生长与表征

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【作者】 孙宏明张翊郭航

【机构】 厦门大学萨本栋微机电研究中心

【摘要】 ZnO薄膜作为半导体材料被广泛应用于光电领域,作为压电薄膜ZnO具备很高的机电耦合系数,因此在MEMS即微机电领域有着广泛的应用。目前,国内对于ZnO薄膜作为光电材料的生长技术与表征都作了大量的研究,但对于ZnO作为压电薄膜的生长技术及其极化与表征却做得很少。因此,本文就在不同电极材料衬底上利用磁控溅射法生长ZnO压电薄膜以及不同处理条件对薄膜质量和器件性能的影响进行了探讨。

  • 【会议录名称】 第二届全国压电和声波理论及器件技术研讨会摘要集
  • 【会议名称】第二届全国压电和声波理论及器件技术研讨会
  • 【会议时间】2006-12-14
  • 【会议地点】中国浙江杭州
  • 【分类号】O484.1
  • 【主办单位】中国力学学会(The Chinese Society of Theoretical and Applied Mechanics)、中国声学学会(The Acoustic Society of China)、IEEE UFFC
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