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第二十二讲 化学气相沉积(CVD)技术

No.22: Chemical Vapor Deposition Technology

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【作者】 张以忱

【Author】 ZHANG Yi-chen;

【机构】 东北大学

【摘要】 <正>(接2024年第1期88页)由于多数分子的键能为几个电子伏特(例如多数有机化合物的碳原子与金属原子的键能为3 eV,H2的H-H键能为4.2 eV,NO2的NO-O键能为3.12 eV,SiH4的Si-H键能为3 eV),因此通常采用光子能量大于3.3 eV的紫外光来激发光解过程。光分解化学反应也可以用非相干光的普通紫外灯(如高压汞灯或低压汞灯)发出的光线激发,但采用紫外激光器能够得到强度更强、单色性能很好的紫外辐射。

  • 【分类号】TB43
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