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基于不完全匹配的掩膜版进行芯片套刻的校准方案

A Calibration Scheme for Chip Engraving Based on Imperfectly Matched Mask

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【Author】 ZHANG Wenjing;ZHANG Kaixin;YANG Tianxi;SUN Jie;YAN Qun;LIN Chang;JIANG Bingxin;LI Yang;LAN Jinhua;CHEN Hui;National and Local United Engineering Laboratory of Flat Panel Display Technology,Fuzhou University,and Fujian Science and Technology Innovation Laboratory for Optoelectronic Information of China;Fujian Science and Technology Innovation Laboratory for Optoelectronic Information of China;Quantum Device Physics Laboratory,Chalmers University of Technology;

【通讯作者】杨天溪;

【机构】福州大学,平板显示技术国家地方联合工程实验室,中国福建光电信息科学与技术创新实验室；中国福建光电信息科学与技术创新实验室；瑞典查尔摩斯理工大学,量子器件物理实验室；

【摘要】提出一种校准方案，在套刻曝光一般步骤的基础上进行适当调整，用不完全匹配的掩膜版同样能够实现准确的套刻曝光。研究为提高芯片制备效率、保证对准精度提供了新思路。更多还原

【Abstract】 A calibration scheme was proposed that made appropriate adjustments based on the general steps of lithography exposure and achieved accurate lithography exposure using incompletely matched masks. This study provided a new approach to improving chip preparation efficiency and ensuring alignment accuracy.更多还原

【关键词】光刻工艺；套刻曝光；校准；集成电路；
【Key words】 lithography process； cross-engraving exposure； calibration； integrated circuit；

【基金】国家重点研发计划（2021YFB3600104）;福建省科技厅项目(2021HZ0114,2021J01583);中国福建光电信息科学与技术创新实验室项目(2021ZZ122)

【文献出处】光电子技术 ,Optoelectronic Technology , 编辑部邮箱 ,2024年02期

【分类号】TN405
【下载频次】23

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