六方氮化硼的低压化学气相沉积制备及其石蜡转移工艺

【摘要】 本文采用低压化学气相沉积法，通过控制生长时间在铜箔表面制备出h-BN，并利用热氧化法将未被h-BN覆盖的铜箔表面氧化，使h-BN与氧化铜箔在显微镜下对比明显，随后采用石蜡转移的方法将生长的h-BN从铜箔转移到目标衬底上。利用光学显微镜，扫描电子显微镜，原子力显微镜、拉曼光谱仪和双光束紫外-可见分光光度计对生长的h-BN进行表征。结果表明：石蜡转移的三角形h-BN纳米片表面平整，尺寸约为10μm，厚度约1nm，得到的h-BN薄膜具有表面洁净度高和连续均匀等优点，h-BN薄膜在1370cm-1处有显著拉曼特征峰，测得的紫外可见吸收光谱表明h-BN薄膜透明度高，其光学带隙在5.75eV左右。与传统的PMMA转移h-BN样品相比，由于石蜡在h-BN等二维材料薄膜表面较低的化学反应活性与非共价亲和性，使用石蜡作为支撑层得到的h-BN表现出更平滑与更洁净的表面。更多还原