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氢元素对铟镓锌氧化物薄膜晶体管性能的影响  
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【英文篇名】 Effects of hydrogen impurities on performances and electrical reliabilities of indium-gallium-zinc oxide thin film transistors
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【作者】 邵龑; 丁士进;
【英文作者】 Shao Yan; Ding Shi-Jin; State Key Laboratory of ASIC and System; School of Microelectronics; Fudan University;
【作者单位】 复旦大学微电子学院专用集成电路与系统国家重点实验室;
【文献出处】 物理学报 , Acta Physica Sinica, 编辑部邮箱 2018年 09期  
期刊荣誉:中文核心期刊要目总览  ASPT来源刊  中国期刊方阵  CJFD收录刊
【中文关键词】 铟镓锌氧化物; 薄膜晶体管; 氢元素杂质; 电学可靠性;
【英文关键词】 indium-gallium-zinc oxide; thin film transistor; hydrogen impurity; electrical stability;
【摘要】 对国际上有关铟镓锌氧化物薄膜晶体管中氢元素的来源、存在形式、表征方法以及对器件性能的影响进行了综述.氢元素是铟镓锌氧化物薄膜晶体管中最为常见的杂质元素,能以正离子和负离子两种形式存在于薄膜晶体管的沟道中,并对器件性能和电学可靠性产生影响.对铟镓锌氧化物薄膜晶体管而言,沟道中氢元素浓度越高,其场效应迁移率越高、亚阈值摆幅越小、器件的电学稳定性也越好.同时,工艺处理温度过低或过高都不利于其器件性能的改善,通常以200—300?C为宜.
【英文摘要】 The influences of hydrogen impurities on the performances of indium-gallium-zinc oxide(IGZO) thin film transistors(TFT) are summarized in this article. Firstly, the sources of hydrogen impurities in the IGZO channels of the TFTs are proposed, which could originate from the residual gas in the deposition chamber, the molecules absorbed on the sputtering target surface, the neighbor films that contain abundant hydrogen elements, doping during annealing processes, etc. The hydrogen impurities in the IGZO films...
【基金】 国家自然科学基金(批准号:61474027)资助的课题~~
【更新日期】 2018-05-22
【分类号】 TN321.5
【正文快照】 阈值摆幅特性的改善以来,关于氢元素对IGZO-1引言TFT特性的影响的研究不断涌现.但是,由于这些研究所采用的方法各不相同,所得结果相差很氧化物半导体材料的研究至今已有数十年的大,因此难以直接进行比较.此外,这些研究往往历史,但其中一些物理现象的起源,如缺陷能级和针对的是?

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