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沉积工艺对YbF_3薄膜可靠性的影响  
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【英文篇名】 Influence of Deposition Process on Reliability of YbF_3 Thin Films
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【作者】 冯毅东; 于天燕; 刘定权;
【英文作者】 Feng Yidong; Yu Tianyan; Liu Dingquan; Shanghai Institute of Technical Physics; Chinese Academy of Sciences; University of Chinese Academy of Sciences;
【作者单位】 中国科学院上海技术物理研究所; 中国科学院大学;
【文献出处】 光学学报 , Acta Optica Sinica, 编辑部邮箱 2018年 07期  
期刊荣誉:中文核心期刊要目总览  ASPT来源刊  CJFD收录刊
【中文关键词】 薄膜; 氟化镱; 可靠性; 离子束辅助沉积; 应力; 附着力;
【英文关键词】 thin films; YbF3; reliability; ion-assisted deposition; stress; adhesion;
【摘要】 从沉积方式、薄膜厚度、沉积温度和离子束能量四个方面,研究了沉积工艺对氟化镱(YbF3)薄膜可靠性的影响。研究结果表明,相较于电阻加热蒸发方式,用电子束加热蒸发得到的YbF3薄膜,其致密性更好,水汽吸收更少;薄膜太厚或沉积温度太高会加大YbF3薄膜的应力,使薄膜表面出现裂痕,甚至使薄膜脱落;离子束辅助沉积可以增加YbF3薄膜的附着力,改善薄膜的表面质量;随着离子束能量的增加,薄膜的应力先增大后减小。根据以上研究结果得出YbF3薄膜的最佳沉积工艺,并研制出具有良好光谱性能和高可靠性的宽光谱增透膜。
【英文摘要】 The influence of deposition process on the reliability of YbF3 films is studied from four aspects including deposition method,film thickness,substrate temperature and ion beam energy.The research results show that,in contrast to those by resistance heating evaporation,the films deposited by electron beam evaporation have a higher density and lower water-vapor absorption.When the film is too thick or the deposition temperature is too high,the stress of YbF3 film increases,which results in the occurrence of c...
【更新日期】 2018-08-16
【分类号】 O484
【正文快照】 随着红外技术的发展,宽光谱光学系统逐渐兴起,其工作光谱范围常涉及可见至远红外,系统中所使用的光学薄膜通常也会同时涉及可见、近红外及远红外波段,覆盖光谱范围较宽[1-4]。因此,在制备此类宽光谱红外光学薄膜时,所选用的材料必须具有宽透明区以保证产品性能良好,而低折射率?

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