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采用快速升温烧结方法生长Tl-2223超导薄膜的研究  
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【英文篇名】 Fabrication of Tl-2223 superconducting thin films by rapid heating-up sintering technology
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【作者】 陈名贤; 黄国华; 黄佳; 蒙美娘; 蒋艳玲; 唐平英; 谢清连;
【英文作者】 Chen Mingxian; Huang Guohua; Huang Jia; Meng Meiniang; Jiang Yanling; Tang Pingying; Xie Qinglian; College of Physics and Electronic Engineering; Guangxi Teachers Education University;
【作者单位】 广西师范学院物理与电子工程学院;
【文献出处】 低温与超导 , Cryogenics & Superconductivity, 编辑部邮箱 2018年 06期  
期刊荣誉：中文核心期刊要目总览  ASPT来源刊  CJFD收录刊
【中文关键词】 Tl-2223超导薄膜; c轴取向生长; 快速升温烧结方法;
【英文关键词】 Tl-2223 superconducting thin film; C-oriented grownth; Rapid heating-up sintering technology;
【摘要】 本文采用磁控溅射和快速升温烧结方法在(00l)取向的铝酸镧(LAO)基片上制备Tl-2223超导薄膜,研究了Tl含量不同的陪烧靶对Tl-2223薄膜晶体结构的影响。XRD测试表明,陪烧靶中Tl含量是制备高质量Tl系薄膜的关键环节,采用合适配比的陪烧靶可制备出纯c轴取向Tl-2223超导薄膜。SEM测试结果表明,采用该工艺制备的薄膜为层状生长结构,其表面形貌平整、致密。经过在氧环境下热处理后的Tl-2223薄膜具有较好的电学性能,其临界转变温度Tc达到118K,临界电流密度Jc为1.2MA/cm2(77K,0T)。
【英文摘要】 In this paper,Tl-2223 superconducting thin films on( 001)-oriented lanthanum aluminate substrates were prepared by magnetron sputtering and rapid heating-up sintering technology( RHST). The effects of different Tl content in annealing target on the crystal structure of Tl-2223 thin films were studied. The XRD test shows that the Tl content in annealing target is the key to the preparation of high quality Tl-based films,and the purely c-oriented Tl-2223 films can be prepared by using suitable proper proporti...
【基金】 国家自然科学基金项目(51561005、51062001); 广西自然科学基金项目(2015jj DA10001); 广西教育厅项目(KY2015ZD076); 广西高校新型电功能材料重点实验室开放课题(DGN201702)
【更新日期】 2018-07-16
【分类号】 O484.1
【正文快照】 1引言Tl系超导材料转变温度高、抗潮湿能力强,在弱电和强电领域应用中有着巨大的潜在价值[1-3]。其中,Tl2Ba2Ca2Cu3O10(Tl-2223)超导相的临界温度Tc高达125K,强磁场条件下在ab面内的工作性能与Tl-1223、YBCO近似[4],是可在液化天然气温区进行超导输电、实现(气网、电网)二网合?

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