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卤硅烷体系脱除B、P杂质工艺的现状及发展趋势  
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【英文篇名】 The Research Status and Development Tendency in the Technology of Boron and Phosphorus Removal from Halogenosilane System
【下载频次】 ★★☆
【作者】 张海洋; 李星; 张传明; 满宝昌; 付雁; 吴成坤; 张金利; 代斌;
【英文作者】 Zhang Haiyang; Li Xin; Zhang Chuanmin; Man Baochang; Fu Yan; Wu Chengkun; Zhang Jinli; Da Bin; School of Chemistry and Chemical Engineering; Shihezi University/Key Laboratory for Green Processing of Chemical Engineering of Xinjiang Bingtuan; School of Chemical Engineering & Technology; Tianjin University; Xinjiang Jinko Solar Co.Ltd.;
【作者单位】 石河子大学化学化工学院/新疆兵团化工绿色过程重点实验室; 天津大学化工学院; 新疆晶科能源有限公司;
【文献出处】 石河子大学学报(自然科学版) , Journal of Shihezi University(Natural Science), 编辑部邮箱 2017年 05期  
期刊荣誉:中文核心期刊要目总览  ASPT来源刊  CJFD收录刊
【中文关键词】 卤硅烷; B、P杂质; 提纯; 树脂吸附;
【英文关键词】 Halogenosilane; boron and phosphorus impurities; purification; resin adsorption;
【摘要】 首先,重点介绍了目前卤硅烷体系脱除B、P杂质工艺的研究进展,概述了国内外相关研究主要的方法、结果与发现;其次,分析了卤硅烷体系脱除B、P杂质工艺研究的现状,归纳出目前国内外各种方法的优劣性及适用性;最后,对我国卤硅烷体系脱除B、P杂质工艺研究进行了展望,提出我国该工艺研究的发展趋势与方向,今后我国应加强吸附法的研究,分子设计并合成具有特定功能的原子或基团的树脂吸附剂,用于卤硅烷体系除B、P杂质,最终形成流程简单、能耗较低、除杂效果稳定的树脂吸附工艺。
【英文摘要】 First of all, the research progress of removing B and P impurities in halosilane system is introduced, and the main methods, results and findings of the relevant researches at home and abroad are summarized. Secondly, the present status of the research on the process of removing B and P impurities from the halosilane system is analyzed, and the advantages and applicability of various methods at home and abroad are also summarized.. Finally, the research on the removal of B and P impurities in the halosilane...
【基金】 教育部“创新团队发展计划”(IRT_15R46); 国家自然科学基金(21706167); 天津市应用基础与前沿技术研究计划(15JCQN JC05800); 石河子大学高层次人才科研启动(RCZX201507)项目
【更新日期】 2018-02-01
【分类号】 TQ264.1
【正文快照】 卤硅烷是重要的有机硅单体,主要用于有机硅烷和烷基、芳基以及有机官能团氯硅烷的合成,是生产有机硅烷偶联剂和多晶硅的主要原料,也是氯碱企业平衡氯碱的一个主要耗氯产品[1]。合成的卤硅烷中一般都含有Si HCl3、Si Cl4、Si H2Cl2等卤硅烷,同时还有金属、B、P等杂质[2-3]。金属

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