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NbSiN薄膜的制备及光学性能研究  
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【英文篇名】 Preparation and Optical Property of NbSiN Films
【下载频次】 ★★☆
【作者】 张易君; 张粞程; 栾明昱; 曾陶; 黄佳木;
【英文作者】 Zhang Yijun; Zhang Xicheng; Luan Mingyu; Zeng Tao; Huang Jiamu; College of Materials Science and Engineering; Chongqing University;
【作者单位】 重庆大学材料科学与工程学院;
【文献出处】 激光与光电子学进展 , Laser & Optoelectronics Progress, 编辑部邮箱 2017年 03期  
期刊荣誉：中文核心期刊要目总览  ASPT来源刊  CJFD收录刊
【中文关键词】 薄膜; 光学性能; 磁控溅射; NbSiN薄膜; 工艺参数;
【英文关键词】 thin films; optical property; magnetron sputtering; NbSiN film; process parameters;
【摘要】 采用射频磁控溅射法,以铌靶和硅靶为靶材,在玻璃基片上沉积了NbSiN薄膜。研究了硅靶、铌靶功率、氮气流量以及溅射时间对薄膜光学性能的影响,得出实验室条件下的最佳制备工艺参数。测试结果表明,最佳工艺参数下制备的NbSiN薄膜均匀致密,主要成分为NbN、NbSiN、无定形的Si3N4及少量的SiO2和Nb2N2-xO3+x。光学性能分析表明,NbSiN薄膜在波长550nm处(人眼最敏感)的可见光透射率为90.5%,红外反射率约为28%,光学性能优异。
【英文摘要】 NbSiN films are deposited on glass substrates with radio frequency(RF)magnetron sputtering method by taking Nb and Si as targets.The effects of powers of silicon target and niobium target,flow rate of nitrogen and sputtering time on optical properties of films are studied,and the optimal preparation process paremeters are obtained.The test results show that the films are uniformly and compactly deposited under the optimal process paremeters,which mainly compose of NbN,NbSiN,amorphous Si3N4,and little SiO2 a...
【基金】 国家科技支撑计划(2012BAJ20B03-05)
【更新日期】 2017-04-05
【分类号】 TU524
【正文快照】 低辐射玻璃具有高红外反射率和可见光透射率,在建筑节能领域得到广泛应用。国内外对离线低辐射薄膜的研究主要集中在其介质膜上,介质层主要有金属氧化物如氧化铟锡(ITO)[1]、铝掺杂的氧化锌(AZO)[2],和金属氮化物如TiAlN[3]、TaNx[4](x为化学计量比)。金属氧化物存在功能层Ag的

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