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离子源循环轰击对磁控溅射TiN薄膜结构和电学性能的影响  
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【英文篇名】 Effects of Ion Source Cycle Bombardment on Structure and Electrical Properties of Ti N Films Prepared by Magnetron Sputtering
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【作者】 邵涛; 孙德恩; 梁斐珂; 黄佳木;
【英文作者】 SHAO Tao; SUN De-en; LIANG Fei-ke; HUANG Jia-mu; School of Materials Science and Engineering; Chongqing University;
【作者单位】 重庆大学材料科学与工程学院;
【文献出处】 中国表面工程 , China Surface Engineering, 编辑部邮箱 2017年 01期  
期刊荣誉：中文核心期刊要目总览  ASPT来源刊  中国期刊方阵  CJFD收录刊
【中文关键词】 TiN薄膜; 离子源循环轰击; 分层结构; 电阻率;
【英文关键词】 Ti N films; ion source cycle bombardment; layered structure; resistivity;
【摘要】 为研究离子源循环轰击对薄膜结构和电学性能的影响,通过离子源轰击辅助直流磁控溅射在200℃下沉积不同循环周期Ti N薄膜,采用场发射扫描电镜、原子力显微镜、X射线衍射仪表征薄膜表面形貌及组织结构。采用纳米压痕仪检测涂层的硬度和弹性模量。采用双电测四探针电阻仪测试室温下薄膜的电学性能。结果表明:离子源轰击在薄膜中形成了分层结构,膜层更加致密光滑,平均粗糙度由5.2 nm下降为2.7 nm。随着离子源循环轰击周期增加薄膜结晶性增强,并且当离子源循环轰击周期为3次时出现了Ti N(200)峰,薄膜硬度和弹性模量提高。当经过2次离子源循环轰击时薄膜电阻值最低为8.1μΩ·cm。
【英文摘要】 In order to study the effects of ion source cycle bombardment on the structure and electrical properties of titanium nitride(Ti N) films, Ti N films were deposited by ion source assisted magnetron sputtering at 200 ℃. The microstructure and phase composition of the films were investigated by field emission scanning electron microscopy(FESEM), atomic force microscope(AFM) and X-ray diffraction(XRD). The resistivity of the films was measured by a four-point probe at room temperature, and the hardness and elas...
【基金】 中央高校基本科研业务费专项资金(CDJZR14135502); 重庆市基础与前沿研究计划项目(cstc2015jcyj A70005)~~
【更新日期】 2017-03-06
【分类号】 TQ134.11;TB383.2
【正文快照】 引文格式:邵涛,孙德恩,梁斐珂,等.离子源循环轰击对磁控溅射Ti N薄膜结构和电学性能的影响[J].中国表面工程,2017,30(1):77-82.SHAO T,SUN D E,LIANG F K,et al.Effects of ion source cycle bombardment on structure and electrical properties of Ti N filmsprepared by mag

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