利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、透射电镜(TEM)和俄歇电子能谱仪(AES)研究了AlON/TiAlON_D/TiAlON_M/Cu选择性吸收涂层高温真空条件下显微形貌、结构与化学成分的变化。结果表明,退火前后选择性吸收涂层的多层膜结构和微观形貌保持稳定。制备态涂层的AlON层和TiAlON_D层为非晶结构,TiAlON_M层由非晶基体和分散的晶粒组成。550℃高温真空退火24 h后,TiAlON_M层发生晶化,晶粒长大。退火过程中,O元素从AlON层扩散至TiAlON双吸收层,而N元素从TiAlON双吸收层扩散至AlON层,同时膜层界面区域变宽。高温真空处理后涂层的吸收率略有降低,而发射率保持不变。晶化导致TiAlON_M层吸光性能下降,以及N和O元素扩散导致最优化结构被破坏是涂层吸收率衰减的主要原因。涂层在真空下热稳定激活能为189.5 k J·mol~(-1),表明涂层具有较好的热稳定性。
【英文摘要】
Scanning electron microscope( SEM),X-ray diffractometer( XRD),transmission electron microscope( TEM) and Auger electron spectroscopy( AES) were used to study the micro-morphology,structure and profile chemical composition of AlON / TiAlON_D/TiAlON_M/ Cu solar selective coating. The results showed the multilayer structure and micro-morphology of the coating kept stable after annealing. The AlON and TiAlON_D layers of as-deposited coating were amorphous and the TiAlON_M layer was consisted of amorphous matrix...
| 
推荐 
点击下列相关研究机构和相关文献作者，可以直接查到这些机构和作者被《中国知识资源总库》收录的其它文献，使您全面了解该机构和该作者的研究动态和历史。
