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径流分子泵在多弧离子镀膜设备的最新应用  
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【英文篇名】 THE NEW APPLICATIONG OF RADIAL MOLECULAR PUMPS(RMP)ON ARC ION PLATING COATERS
【下载频次】 ★★☆
【作者】 张永胜; 储继国;
【英文作者】 ZHANG Yong-sheng; CHU Ji-guo; Manz Coating GmbH; Shenzhen University;
【作者单位】 亚智系统科技(苏州)有限公司; 深圳大学;
【文献出处】 真空与低温 , Vacuum and Cryogenics, 编辑部邮箱 2016年 02期  
期刊荣誉：ASPT来源刊  CJFD收录刊
【中文关键词】 多弧离子镀; 径流分子泵; 镀膜工艺; 抽气特性;
【英文关键词】 arc ion plating; Radial Molecular Pumps(RMP); coating process; pump speed;
【摘要】 通过对新开发问世的径流分子泵进行介绍,其独特抽气特性,为多弧离子镀的工艺优化提供了理论依据。传统多弧离子镀的抽气工艺和镀膜工艺,是在扩散泵和涡轮分子泵抽气能力的制约下总结出来的。径流泵机组的问世,为多弧离子镀膜提供了更加宽广的镀膜工艺选择空间。这样就有必要对抽气工艺和镀膜工艺进行重组和优化,进一步提升多弧离子镀膜设备的性能和经济效益。
【英文摘要】 This paper introduces the newly developed radial molecular pump(RMP). The theory of process optimization is based on the special pump curve. The pump process and the coating process were developed according to restricted diffusion pumps and the TMPs. After the RMP is developed,it can extend the process windows for arc ion plating coating.It is necessary to optimize the pump process and the coating process to make the coater performance better.
【更新日期】 2016-05-10
【分类号】 TB752
【正文快照】 0引言材料科学是国家发展的三大支柱之一,薄膜材料更是我国前沿科学和高新技术产品的重要基石。制备薄膜材料的技术随着高新技术的发展,应用范围越来越宽阔。多弧离子镀具有膜层致密性好、结合力强和膜材品种多等一系列优点,现已成为制备各种功能薄膜的重要手段,应用范围广泛[1

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