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VO_2薄膜表面氧缺陷的修复:F_4TCNQ分子吸附反应  
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【英文篇名】 Healing of oxygen defects on VO_2surface: F_4TCNQ adsorption
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【作者】 王凯; 张文华; 刘凌云; 徐法强;
【英文作者】 Wang Kai; Zhang Wen-Hua; Liu Ling-Yun; Xu Fa-Qiang; National Synchrotron Radiation Laboratory; University of Science and Technology of China;
【作者单位】 中国科学技术大学国家同步辐射实验室;
【文献出处】 物理学报 , Acta Physica Sinica, 编辑部邮箱 2016年 08期  
期刊荣誉:中文核心期刊要目总览  ASPT来源刊  中国期刊方阵  CJFD收录刊
【中文关键词】 二氧化钒薄膜; 氧缺陷; F4TCNQ; 同步辐射;
【英文关键词】 VO2; oxygen defects; F4TCNQ molecule; synchrotron radiation;
【摘要】 VO_2表面氧缺陷的存在对VO_2材料具有显著的电子掺杂效应,极大地影响材料的本征电子结构和相变性质.通过2,3,5,6-四氟-7,7’,8,8’-四氰二甲基对苯醌(F_4TCNQ)分子表面吸附反应,可以有效消除表面氧缺陷及其电子掺杂效应.利用同步辐射光电子能谱和X射线吸收谱原位研究了修复过程中电子结构的变化以及界面的化学反应,发现这种方式使得VO_2薄膜样品氩刻后得到的V~(3+)失去电子成功地被氧化成原先的V~(4+),同时F_4TCNQ分子吸附引起电子由衬底向分子层转移,界面形成带负电荷的分子离子物种.受电化学性质的制约,(F_4TCNQ)分子吸附反应修复氧缺陷较氧气氛退火更安全有效,不会引起表面过度氧化形成V_2O_5.
【英文摘要】 Oxygen-defect vacancies that routinely exist in wet production of VO_2 material or on the surface of VO_2 single crystal after surface treatment have significant influence on the metal-insulator phase transition features mainly due to their enhanced effect of doping on V 3d electronic structure. The removal of the surface oxygen defects is highly desired for investigating the VO_2 intrinsic electronic properties. In this work, we propose a charge transfer doping method by using strong electric affinity mole...
【基金】 国家自然科学基金(批准号:11175172,U1232137,u1332133); 中国科学院合肥大科学中心科学研究项目(批准号:2015SRGHSC032)资助的课题~~
【更新日期】 2016-05-11
【分类号】 O484;O483
【正文快照】 VO2表面氧缺陷的存在对VO2材料具有显著的电子掺杂效应, 极大地影响材料的本征电子结构和相变性质. 通过2, 3, 5, 6-四氟-7, 7’, 8, 8’-四氰二甲基对苯醌(F4TCNQ) 分子表面吸附反应, 可以有效消除表面氧缺陷及其电子掺杂效应. 利用同步辐射光电子能谱和X射线吸收谱原位研究了

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