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皮秒激光熔覆硼掺杂硅纳米浆料的实验研究  
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【英文篇名】 B-Doped Nano-Si-Paste by Picosecond Laser Cladding
【下载频次】 ★★★★★
【作者】 洪捐; 宣容卫; 黄海冰; 黄因慧; 汪炜;
【英文作者】 Hong Juan; Xuan Rongwei; Huang Haibing; Huang Yinhui; Wang Wei; College of Mechanical and Electrical Engineering; Nanjing University of Aeronautics and Astronautics; College of Mechanical Engineering; Yancheng Institute of Technology; China Sunergy (Nanjing)PV-Tech Co.; Ltd;
【作者单位】 南京航空航天大学机电学院; 盐城工学院机械工程学院; 中电电气(南京)光伏有限公司;
【文献出处】 中国激光 , Chinese Journal of Lasers, 编辑部邮箱 2016年 09期  
期刊荣誉：中文核心期刊要目总览  ASPT来源刊  中国期刊方阵  CJFD收录刊
【中文关键词】 激光技术; 硅浆料; 硼掺杂; 皮秒激光; 硅熔覆层; 太阳能电池;
【英文关键词】 laser technique; silicon paste; boron doping; picosecond laser; silicon cladding layer; solar cell;
【摘要】 采用硼掺杂的硅纳米颗粒和有机载体混合配制的硅浆料作为原料,以标准太阳能电池工艺中的预处理硅片作为基片,在硅片背面丝网印刷硅浆料,烘干后形成硅纳米薄膜,经皮秒激光熔覆形成掺杂的硅熔覆层,同时硼元素扩散进入硅基片。采用激光形貌仪、扫描电子显微镜、二次离子质谱等手段分析了熔覆层的组织结构和硼元素的掺杂情况。结果表明,皮秒激光形成的硅熔覆层组织均匀致密,与基体之间结合紧密,无裂纹、孔洞等缺陷。硅熔覆层中的硼掺杂浓度最高达到3×1019 atom/cm3,在硅基体内扩散深度为0.5~1μm。在中电电气(南京)光伏有限公司太阳能电池生产线上进行了电池制备实验,平均光电转换效率达到20.3%。
【英文摘要】 Silicon paste prepared by boron doped Si nanoparticles and organic carriers is used as the source.The Si wafers from the standard process of solar cells are used as the substrate.The Si paste is fully screen-printed on the preprocessed Si rear surface and dried,and then a homogenous B-doped Si cladding layer is formed by picosecond laser.During the process,B diffuses into the substrate.The structure of Si cladding layer and doping performance of B element are observed by laser scanning microscope,scanning e...
【基金】 国家自然科学基金(51475236)
【更新日期】 2016-10-31
【分类号】 TN249;TM914.4
【正文快照】 随着激光技术的进步,激光设备成本不断降低,激光加工的稳定性不断提高,采用激光进行局部硼扩散0902006-1在高效晶硅太阳能电池尤其是钝化发射极背面全接触(PERC)太阳能电池领域有广阔的应用前景[1-3]。硼元素在硅基体内的扩散较慢[4],一般需要较长时间和较高温度才能实现扩散。

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