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亚分辨率辅助图形对28纳米密集线条光刻成像的影响

Sub-Resolution-Assist-Feature placement effect to 28nm dense line patterns

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【Author】 CHEN Quan;DUAN Li;MAO Zhi-biao;Shanghai Jiao Tong University;Shanghai Huali Microelectronics Corporation;

【摘要】亚分辨率辅助图形(Sub-Resolution-Assist-Feature,SRAF)是光刻工艺图形增强技术(Resolution Enhancement Technology,RET)中广泛应用的一种方法。本文设计实验在密集图形(线宽/距离比约1:1)外侧放置不同的SRAF,研究了SRAF对于密集图形内部线条成像的影响,通过实验数据总结和理论分析,提出了最佳的SRAF放置位置。此外,本文还设计了一种与设计图形线宽一样大小的SRAF,并比较了其与传统尺寸SRAF对密集图形内侧线条成像的影响。更多还原

【Abstract】 Sub-Resolution-Assist-Feature(SRAF)plays more and more important role in the Resolution Enhancement Technology(RET). In this paper, SRAF experiments were carried out to a 28 nm dense line pattern, the best SRAF placement location was recommended according to experiment and optical intensity analysis. Furthermore,SRAF with same width of design pattern was also studied.更多还原

【关键词】亚分辨率辅助图形； SRAF；光学邻近效应修正； OPC；分辨率；
【Key words】 Sub-Resolution-Assist-Feature； SRAF； OPC； Optical Proximity Correction； Resolution；

【文献出处】中国集成电路 ,China Integrated Circuit , 编辑部邮箱 ,2016年05期

【分类号】TN305.7
【被引频次】2
【下载频次】143

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