节点文献

纳米SiO2在化学镀Ni-P合金镀液中的分散性研究

Dispersity of Nano-SiO2 in the Electroless Ni-P Alloy Plating Solution

  • 推荐 CAJ下载
  • PDF下载
  • 不支持迅雷等下载工具,请取消加速工具后下载。

【作者】 陈尔跃翟方慧徐娟

【Author】 CHEN Eryue;ZHAI Fanghui;XU Juan;Qiqihar University;

【机构】 齐齐哈尔大学

【摘要】 采用红外-紫外-可见分光光度计法研究了不同表面活性剂、配位剂、纳米SiO2和p H对纳米粒子在溶液中的分散性和稳定性的影响;讨论了在不同温度和纳米粒子含量下,纳米粒子在铜表面的沉积速度。实验结果表明,化学复合镀Ni-P合金最佳工艺及操作条件是表面活性剂为5 g/L十二烷基硫酸钠,配位剂为13 g/L醋酸钠,2 m L/L乳酸,p H为5.05.5,3 g/L纳米SiO2,θ为8085℃。

【Abstract】 The effects of different surfactants,ligands,nano-SiO2 and p H on the dispersity and stability of the nano-particles in the aqueous solution were studied by infrared-ultraviolet-visible spectrophotometry.The plating velocity of the nano-particles on the surface of Cu substrates were discussed at different temperatures and contents. The experimental results showed that the optimal process and operating conditions of electroless composite plating Ni- P alloys were obtained,including SDS as surfactants( 5 g / L),Na Ac as ligands( 13 g / L),lactic acid( 2 m L / L),p H( 5. 0 5. 5),nano-SiO2( 3 g /L) and temperature( 80 85 ℃).

【基金】 黑龙江省高校科研创新团队项目(项目编号2012TD012)
  • 【文献出处】 电镀与精饰 ,Plating & Finishing , 编辑部邮箱 ,2016年08期
  • 【分类号】TB306
  • 【被引频次】3
  • 【下载频次】116
节点文献中: 

本文链接的文献网络图示:

本文的引文网络