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快速退火对Si/NdFeCo/Cr薄膜微结构与磁性的影响  
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【英文篇名】 Microstructures and Magnetic Properties of Si/NdFeCo/Cr Films with Rapid Thermal Annealing
【下载频次】 ★★★☆
【作者】 童六牛; 高成; 何贤美; 李婷婷; 邓朋;
【英文作者】 Tong Liuniu; Gao Cheng; He Xianmei; Li Tingting; Deng Peng; School of Materials Science and Engineering; Anhui University of Technology; School of Mathematics and Physics;
【作者单位】 安徽工业大学材料科学与工程学院; 安徽工业大学数理科学与工程学院;
【文献出处】 稀有金属 , Chinese Journal of Rare Metals, 编辑部邮箱 2015年 04期  
期刊荣誉：中文核心期刊要目总览  ASPT来源刊  CJFD收录刊
【中文关键词】 NdFeCo薄膜; 垂直磁各向异性; 磁畴; 快速退火热处理;
【英文关键词】 NdFeCo films; perpendicular magnetic anisotropy; magnetic domains; rapid thermal annealing;
【摘要】 采用射频(RF)磁控溅射方法,在2种基底温度(TS=25,310℃)的基片上制备了结构为Si(111)/NdFeCo(610 nm)/Cr(10 nm)的薄膜样品,溅射氩气压保持在pAr=0.1 Pa。采用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电镜(FE-SEM)、振动样品磁强计(VSM)、原子力显微镜(AFM)和磁力显微镜(MFM)等实验技术,研究了一步和三步快速退火(RTA-I和RTA-II)工艺对两种薄膜微结构和磁性的影响。结果显示,室温基底上沉积的样品呈非晶态,磁畴为面内磁畴结构;而加热基底上制备的样品则析出了Nd2Fe17和Nd6Fe13Si纳米晶,垂直磁各向异性(PMA)反常增强,垂直磁各向异性能为K⊥=1.18×105J·m-3,磁畴为平行条纹畴。在TA=500℃经过RTA-I/-II工艺后,基底加热样品析出的Nd2Fe17和Nd6Fe13Si纳米晶继续长大,磁畴由条纹畴转变为磁斑畴。而室温基底上制备的薄膜经RTA-I/-II退火后则没有观察到界面硅化物,却发现结晶出的Fe Co和Nd2Fe15Co2纳米晶粒大小和取向敏感地依赖于退火工艺。即一步快速退火工艺有利于析出(111)织构的Nd2Fe15C...
【英文摘要】 Two kinds of Si( 111) / NdFeCo( 610 nm) / Cr( 10 nm) thin film samples were prepared by radio frequency( RF) magnetron sputtering under working Ar pressure( pAr) of 0. 1 Pa at substrate temperature( TS) of 25 and 310 ℃,respectively. The effects of one-step and three-step rapid thermal annealing( RTA) processes( denoted as RTA-I and RTA-II,respectively) on crystal structures and magnetic properties of the films were characterized by X-ray diffraction( XRD),field emission scanning electron microscope( FESEM),...
【基金】 安徽省教育厅重点项目(KJ2011A052); 国家教育部归国留学人员科研启动基金项目(011102)资助
【更新日期】 2015-05-25
【分类号】 TB383.2
【正文快照】 马鞍山243002)稀土-过渡族金属(RE-TM)薄膜具有高的垂直磁各向异性(PMA)和优良的磁光特性,在新型磁电子器件中具有广泛的应用前景。目前,基于自旋转移矩效应(STT)的垂直磁随机存储器是倍受关注的磁电子元器件。提高铁磁层的PMA对降低STT驱动磁矩翻转的临界电流密度、提高磁存储

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