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后退火增强氢化非晶硅钝化效果的研究  
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【英文篇名】 Investigation of post-annealing enhancement effect of passivation quality of hydrogenated amorphous silicon
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【作者】 陈剑辉; 杨静; 沈艳娇; 李锋; 陈静伟; 刘海旭; 许颖; 麦耀华;
【英文作者】 Chen Jian-Hui; Yang Jing; Shen Yan-Jiao; Li Feng; Chen Jing-Wei; Liu Hai-Xu; Xu Ying; Mai Yao-Hua; Hebei Key Lab of Optic-electronic Information and Materials; College of Physics Science and Technology; Hebei University; State Key Laboratory of Photovoltaic Materials & Technology; Yingli Group Co.; Ltd.;
【作者单位】 河北省光电信息材料重点实验室; 河北大学物理科学与技术学院; 光伏材料与技术国家重点实验室; 英利集团有限公司;
【文献出处】 物理学报 , Acta Physica Sinica, 编辑部邮箱 2015年 19期  
期刊荣誉:中文核心期刊要目总览  ASPT来源刊  中国期刊方阵  CJFD收录刊
【中文关键词】 非晶硅; 退火; 钝化; 少子寿命;
【英文关键词】 amorphous silicon; passivation; annealing; minority carrier lifetime;
【摘要】 在本征氢化非晶硅(a-Si:H(i))/晶体硅(c-Si)/a-Si:H(i)异质结构上溅射ITO时,发现后退火可大幅增加ITO/a-Si:H(i)/c-Si/a-Si:H(i)的少子寿命(从1.7 ms到4 ms).这一增强效应可能的三个原因是:ITO/aSi:H(i)界面场效应作用、退火形成的表面反应层影响以及退火对a-Si:H(i)材料本身的优化,但本文研究结果表明少子寿命增强效应与ITO和表面反应层无关;对不同沉积温度制备的a-Si:H(i)/c-Si/a-Si:H(i)异质结后退火的研究表明:较低的沉积温度(<175?C)后退火增强效应显著,而较高的沉积温度(>200?C)后退火增强效应不明显,可以确定低温长高温后退火是获得高质量钝化效果的一种有效方式;采用傅里叶红外吸收谱(FTIR)研究不同沉积温度退火前后a-Si:H(i)材料本身的化学键构造,发现退火后异质结少子寿命大幅提升是由于a-Si:H(i)材料本身的结构优化造成的,其深层次的本质是通过材料的生长温度和退火温度的优化匹配来控制包括H含量、H键合情况以及Si原子无序性程度等微观因素主导作用的一种竞争性平衡,对这一平衡点的最佳控制是少子寿命大...
【英文摘要】 The excellent surface passivation scheme for suppression of surface recombination is a basic prerequisite to obtain high efficiency solar cells. Particularly, the HIT(heterojunction with intrinsic thin-layer) solar cell, which possesses an abrupt discontinuity of the crystal network at an interface between the crystalline silicon(c-Si) surface and the hydrogenated amorphous silicon(a-Si:H) thin film, usually causes a large density of defects in the bandgap due to a high density of dangling bonds, so it is v...
【基金】 河北省自然科学基金项目(批准号:E2015201203,E2014201063)资助的课题~~
【更新日期】 2015-11-18
【分类号】 TN304.12
【正文快照】 1引言优良的表面钝化是高效率晶硅电池的关键技术,是制备高性能器件的必要条件[13].氧化硅(Si O2)、氮化硅(Si3N4)、氧化铝(Al2O3)和氢化非晶硅(a-Si:H)等材料被广泛应用于硅太阳电池的表面钝化[48].材料的钝化机理通常分为场钝化机理和化学钝化机理,顾名思义,场钝化是利用材料

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