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光刻材料的发展及应用  
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【英文篇名】 Development and Application of Lithography Materials
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【作者】 庞玉莲; 邹应全;
【英文作者】 PANG Yu-lian; ZOU Ying-quan; College of Chemistry; Beijing Normal University;
【作者单位】 北京师范大学化学学院;
【文献出处】 信息记录材料 , Information Recording Materials, 编辑部邮箱 2015年 01期  
期刊荣誉：ASPT来源刊  CJFD收录刊
【中文关键词】 光刻技术; 光刻材料; 光刻胶; 抗蚀剂; 市场前景;
【英文关键词】 lithography; lithography materials; photoresist; market situation;
【摘要】 简述了光刻技术及光刻材料的发展过程及发展趋势,对光刻技术在集成电路和半导体分立器件的微细加工以及印刷电路板、平板显示器、触摸屏等制作过程中的应用进行了概述。并重点围绕光刻胶在集成电路制造中的应用,对其反应机理、应用性能等进行了阐述。同时还对光刻材料的市场特别是中国市场的现状及前景做了一定分析。
【英文摘要】 This article reviews the development process and the development trend of lithography and photoresist.It also describes the application of lithography technology in the production process in the micro fabrication of IC(integrated circuit) and discrete semiconductor devices and PCB(printed circuit board), flat panel display, touch screen. And focus on the application of the photoresist in integrated circuit manufacturing, described their reaction mechanism and application performance.We also do some analysis...
【更新日期】 2015-03-16
【分类号】 TN305.7
【正文快照】 1引言光刻技术(Lithography)是指利用光刻材料(特指光刻胶)在可见光、紫外线、电子束等作用下的化学敏感性,通过曝光、显影、刻蚀等工艺过程,将设计在掩膜版(Mask)上的图形转移到衬底上的图形微细加工技术。光刻技术最早应用于集成电路和半导体分立器件的微细加工。光刻技术是?

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