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【英文篇名】 |
Preparation of Roundish CeO_2 and Its Polishing Performances |
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【下载频次】 |
★★★★★ |
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【作者】 |
周新木;
阮桑桑;
彭欢;
李静;
李永绣; |
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【英文作者】 |
Zhou Xinmu;
Ruan Sangsang;
Peng Huan;
Li Jing;
Li Yongxiu;
Department of Chemistry;
Nanchang University; |
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【作者单位】 |
南昌大学化学系; |
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【文献出处】 |
稀有金属
, Chinese Journal of Rare Metals, 编辑部邮箱
2014年 06期
期刊荣誉：中文核心期刊要目总览 ASPT来源刊 CJFD收录刊 |
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【中文关键词】 |
氧化铈;
类球形;
合成;
抛光; |
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【英文关键词】 |
ceria;
roundish;
synthesis;
polishing; |
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【摘要】 |
采用溶剂热法合成了粒径为200 nm左右的类球形Ce O2前驱体,在一定温度下煅烧得到抛光粉,采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)、电子衍射、激光粒度分析仪等对其进行了表征和观察;同时考察了溶剂热温度、分散剂种类和用量等因素对合成类球形Ce O2前驱体的影响,以及不同煅烧温度和煅烧时间对单晶硅片抛光性能的影响。结果表明:以氯化铈为铈源,以0.75 mol·L-1NH3·H2O为沉淀剂,乙二醇为溶剂,聚乙烯吡咯烷酮(PVP)为分散剂,搅拌30 min后得到浑浊液转移至50 ml内衬聚四氟乙烯(PTFE)反应罐中,在烘箱中于180℃反应24 h,沉淀分别用去离子水,无水乙醇各洗3次,放于60℃烘箱中烘干,得到氧化铈前驱体,经500℃煅烧2 h为D50=203 nm的类球形Ce O2粉体,粉体分散性好,配成质量分数为0.2%的抛光浆料对n(111)型单晶硅片抛光,得到较高抛光速率和超平整的抛光表面。 |
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【英文摘要】 |
The roundish Ce O2 precursors with diameters of 200 nm were synthesized by solvothermal method. And the polishing powder was obtained by calcining the precursor at different temperatures and characterized by X-ray diffraction( XRD),scanning electron microscopy( SEM),transmission electron microscopy( TEM),electron diffraction,and laser particle size analyzer. The effect of solvothermal temperatures,the kind and amount of dispersant on the Ce O2 precursors and the effect of the different calcining temperature... |
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【基金】 |
国家科技部863项目(2010AA03A407)资助 |
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【更新日期】 |
2014-12-24 |
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【分类号】 |
TQ133.3 |
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【正文快照】 |
自组装形貌颗粒在许多应用领域里表现出巨大的优势,拥有比表面积大,氧空位多,活性高等一系列优点。在过去的几十年中,自组装纳米晶体的研究有很大的进展,由于纳米小尺寸效应,使其不仅在基础科学研究中起到很大的作用,而且在其他领域中用途也非常大。二氧化铈是一种非常重要的稀 |
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