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EACVD一体化系统衬底温度控制研究

Control of substrate temperature in the integration electron-assisted chemical vapor deposition system

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【作者】 刘利宏

【Author】 Liu Lihong;Huaian College of Information Technology;

【机构】 淮安信息职业技术学院机电系

【摘要】 以电子辅助热丝化学气相沉积(Electron-assisted Chemical Vapor Deposition,EACVD)一体化系统为研究对象,根据金刚石沉积过程中对衬底温度的要求,设计了模糊PID衬底温度控制系统。使用结果表明:该系统对化学气相沉积(CVD)金刚石的衬底温度参数控制精确,能够长时间稳定运行,可以制备出高质量的CVD金刚石涂层。

【Abstract】 According to the requirement for the temperature in the deposition of the diamond,a fuzzy-PID compound control method was established in the integration Electron-Assisted Chemical Vapor Deposition( EACVD) system. The experiment of CVD diamond deposition shows that the process parameters can be accurately controlled and the system can apply stable long-term operation. It can be used for the deposition of high quality CVD diamond coating.

  • 【文献出处】 现代制造工程 ,Modern Manufacturing Engineering , 编辑部邮箱 ,2014年10期
  • 【分类号】TB306;TP273
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