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离轴磁控溅射法生长1-3维PZT-NFO纳米复合薄膜  
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【英文篇名】 Preparation of 1-3 Dimensional PZT-NFO Nanocomposite Films by Off-axis Magnetron Sputtering
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【作者】 张辉; 马永军; 王艺程; 文丹丹; 叶飞; 白飞明;
【英文作者】 ZHANG Hui; MA Yong-Jun; WANG Yi-Cheng; WEN Dan-Dan; YE Fei; BAI Fei-Ming; State Key Laboratory of Electronic Thin Film and Integrated Devices; University of Electronic Science and Technology; The Second Cogeneration Power Plant; School of Materials Science and Engineering; Dalian University of Technology;
【作者单位】 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室; 包头市第二热电厂; 大连理工大学材料科学与工程学院;
【文献出处】 无机材料学报 , Journal of Inorganic Materials, 编辑部邮箱 2014年 04期  
期刊荣誉：中文核心期刊要目总览  ASPT来源刊  中国期刊方阵  CJFD收录刊
【中文关键词】 纳米复合; 磁电效应; 磁控溅射; 自组装;
【英文关键词】 nanocomposite; magnetoelectric effect; magnetron sputtering; self-assembly;
【摘要】 采用90°离轴磁控溅射法,在MgAl2O4(001)单晶基片上自组装生长了Pb(Zr0.52Ti0.48)O3-NiFe2O4(PZT-NFO)复合磁电薄膜,并研究了基片温度、氩氧比和溅射功率等因素对薄膜结构和性能的影响。结果表明,适合生长PZT-NFO薄膜的条件为基片温度800℃,氩氧比1:1,溅射功率160 W。XRD测试显示,PZT-NFO薄膜为外延生长薄膜,且PZT相与NFO相之间的垂直晶格失配非常小。AFM和SEM结构观察表明,薄膜具有清晰的1-3维纳米复合结构,铁磁相NFO纳米柱直径约为80~150 nm。降低氩氧比有助于NFO相的形成,但溅射功率过大会造成1-3维结构向无规则0-3维结构转变。磁性能测量表明纳米复合薄膜的饱和磁化强度在120~160 kA/m之间,低于块体的NFO相,可能是由于两相的界面扩散所造成。
【英文摘要】 Self-assembled nanocomposite Pb(Zr0.52Ti0.48)O3-NiFe2O4 films were prepared on the(001)-oriented MgAl2O4substrates by a 90° off-axis magnetron sputtering method.The influences of substrate temperature,argon over oxygen ratio and sputtering power on the structure and properties of PZT-NFO nanocomposite films were studied.The optimal growth conditions are substrate temperature of 800 ℃,argon over oxygen ratio of 1:1 and sputtering power of 160 W.XRD studies reveal that the PZT-NFO film is epitaxial along both...
【基金】 国家重大基础研究资助项目(2012CB933104); 国家自然科学基金(61271031); 中央高校科研业务费资助项目(ZYGX2010X009)~~
【更新日期】 2014-07-01
【分类号】 TB383
【正文快照】 磁电多铁性材料同时存在铁电性和铁磁性,在新型多功能器件中具有巨大的应用价值,如换能器、传感器及微波环形器、隔离器等,且在传感、存储、驱动和智能系统等高技术领域得到越来越多的关注[1-3]。磁电多铁性材料中最有研究潜力的是复合磁电材料。根据材料的复合方式不同,磁电复

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