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高沉积率低动能气流溅射系统

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【作者】 范崇治； 殷志强；

【机构】 清华大学；

【摘要】 <正>在薄膜溅射沉积中,用具有能量的离子或中性粒子轰击薄膜对薄膜结构有重大影响,这些影响由于沉积条件的不同变化非常大,特别是质点轰击能量,沉积技术如离子团束(ICB)沉积、偏置溅射及离子束沉积已被用于控制粒子的流量和能量。一般说来,从100 eV到几千eV的质点能量用于离子加速技术易于控制,而低能量质点很难严格控制。

【关键词】 离子束沉积； 溅射沉积； 薄膜结构； 粒子轰击； 溅射系统； 沉积率； 沉积技术； 原子热； 放电功率； 热蒸发；
  • 【分类号】TB383.2
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