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硅外延及其应用

Epitaxial Silicon and Its Application

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【Author】 XU Yuan-zhi1,2,HU Liang2,WU Zhong-yuan2(1.Kunming Yeyan New-Material Co.,Ltd.,Kunming,Yunnan 650031,China; 2.College of Chemical Engineering,Kunming University of Science and Technology, Kunming,Yunnan 650500,China)

【机构】昆明冶研新材料股份有限公司；昆明理工大学化学工程学院；

【摘要】介绍了硅外延生长技术,综述了应用于硅外延的分子束外延(MBE)、化学气相沉积(CVD)、液相沉积(LPE)三种工艺,并介绍了Si基外延材料器件的应用。更多还原

【Abstract】 Silicon epitaxy growth technology is introduced,and three kinds of technologies applied to silicon epitaxy are summarized: molecular beam epitaxy(MBE),chemical vapor deposition(CVD),liquid deposition(LPE),and the application of Si base epitaxial material device is also introduced.更多还原

【关键词】 MBE； CVD； LPE；硅外延；应用；
【Key words】 MBE； CVD； LPE； silicon epitaxy； application；

【文献出处】云南冶金 ,Yunnan Metallurgy , 编辑部邮箱 ,2013年03期

【分类号】TN304.12
【被引频次】10
【下载频次】588

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