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双频容性耦合等离子体相分辨发射光谱诊断  
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【英文篇名】 Phase resolved optical emission spectroscopy of dual frequency capacitively coupled plasma
【下载频次】 ★★★
【作者】 杜永权; 刘文耀; 朱爱民; 李小松; 赵天亮; 刘永新; 高飞; 徐勇; 王友年;
【英文作者】 Du Yong-Quan; Liu Wen-Yao; Zhu Ai-Min; Li Xiao-Song; Zhao Tian-Liang; Liu Yong-Xin; Gao Fei; Xu Yong; Wang You-Nian; Laboratory of Plasma Physical Chemistry; Dalian University of Technology; School of Physics and Optoelectronic Technology;
【作者单位】 大连理工大学等离子体物理化学实验室; 大连理工大学物理与光电工程学院;
【文献出处】 物理学报 , Acta Physica Sinica, 编辑部邮箱 2013年 20期  
期刊荣誉:中文核心期刊要目总览  ASPT来源刊  中国期刊方阵  CJFD收录刊
【中文关键词】 双频容性耦合等离子体; 等离子体鞘层; 发射光谱;
【英文关键词】 dual frequency capacitively coupled plasma; plasma sheaths; optical emission spectroscopy;
【摘要】 采用相分辨发射光谱法,对双频容性耦合纯Ar和不同含O2量的Ar-O2混合气体放电等离子体的鞘层激发模式进行了探究.放电腔室耦合电源电极的鞘层区域处观察到两种电子激发模式:鞘层扩张引起的电子碰撞激发模式和二次电子引起的电子碰撞激发模式;并发现这两种激发模式均受到低频射频电源周期的调制.在纯Ar放电等离子体中,两种激发模式的激发轮廓相似;而在Ar-O2混合气放电等离子体中,随着含O2量的增加,二次电子的激发轮廓变弱.此外,利用相分辨发射光谱法对不同含O2量的Ar-O2混合气放电下Ar的750.4 nm谱线在低频周期内的平均光强随轴向分布进行了研究,得到了距耦合电源电极约3.8 mm处为双频容性耦合射频等离子体的鞘层边界.
【英文摘要】 In this article we use phase resolved optical emission spectroscopy to study emission pattern in plasma sheath of dual frequency capacitively coupled plasma in Ar and Ar-O2 discharge. Two emission patterns are found in sheath region of radio-frequency coupled powered electrode. The first pattern is related to electron impact excitation because of the sheath expansion. The second pattern is caused by electron impact excitation of secondary electrons. Two emission patterns are also highly modulated with the l...
【基金】 国家自然科学基金(批准号:10975029); 国家重大科技专项(批准号:2011ZX02403-001)资助的课题~~
【更新日期】 2014-01-03
【分类号】 O539
【正文快照】 1引言近年来,随着电子信息技术的快速发展,电子电路和系统不断地向微型化方向发展.射频容性耦合等离子体放电技术已广泛地应用于半导体集成电路制造、材料表面处理和半导体加工等工艺.在早期的工业界中,人们通常采用单频容性耦合等离子体源(single frequency capacitively coup

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