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基于多层膜结构的亚波长光栅研究

Research of subwavelength grating based on multilayer films structure

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【Author】 Liang Gao-Feng~(1)2)) Zhao Qing~(1)+) Chen Xin~(1)2)) Wang Chang-Tao~(2)) Zhao Ze-Yu~(2)) Luo Xian-Gang~(2)+) 1)(School of Physical Electronics,University of Electronic Science and Technology of China,Chengdu 610054,China) 2)(State Key Laboratory of Optical Technologies for Microfabrication,Institute of Optical and Electronics, Chinese Academy of Science,Chengdu 610209,China)

【机构】电子科技大学物理电子学院；中国科学院光电技术研究所,微细加工光学技术国家重点实验室；

【摘要】利用表面等离子体共振效应理论及金属-介质复合膜的特殊纳米光学效应对平面多层膜超分辨光刻技术进行了研究.在曝光光源为365 nm的情况下,实现周期230 nm,线宽100 nm的超分辨光刻成像.讨论了均匀金属-介质多层膜的结构参数选择,并通过数值仿真得到有效的光强度和对比度,然后用等离子体纳米光刻进行试验验证,通过最优化选择,最终得到了亚波长结构多层膜的大区域范围超分辨成像.更多还原

【Abstract】 Based on the theory of suface plasmon resonance and the special nano-optical effect of metal-dielectric composite,we study super-resolution photolithography using multilayer films.The main point is to use 365 nm exposal light to realize super-resolution imaging by using a mask with a period of 230 nm and linewidth of 100 nm.We discuss the selection of the parameters multi-film with equal thickness,and achieve a sufficient contrast and high intensity through numerical simulation,then verify the obtained results by the plasmon nanolithography technique.Choosing the best scheme,we achieve large-area super-resolution images with the subwavelength structure.更多还原

【关键词】表面等离子体；超分辨成像；纳米光刻技术；
【Key words】 suface plasmon； super-resolution imaging； nanolithography technique；

【基金】国家重点基础研究发展计划(973计划)(批准号:2011CB301800-G);国际合作项目(批准号:2011DFA63190);微细加工光学技术国家重点实验室基金(批准号:201101445)资助的课题~~

【文献出处】物理学报 ,Acta Physica Sinica , 编辑部邮箱 ,2012年10期

【分类号】O484.41
【被引频次】5
【下载频次】339

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