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GD-MS法和ICP-MS法测定高纯铌中痕量元素

Determination of trace amounts of elements in high purity niobium by GD-MS and ICP-MS

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【作者】 李宝城刘英童坚李继东李艳芬臧慕文

【Author】 LI Bao-cheng,LIU Ying,TONG Jian,LI Ji-dong,LI Yan-fen and ZANG Mu-wen(General Research Institute for Non-ferrous Metals,Beijing 100088)

【机构】 北京有色金属研究总院分析测试技术研究所

【摘要】 采用辉光放电质谱法(GD-MS)对高纯铌中Ta,Mo,W等痕量杂质元素进行了测试,并对GD-MS工作参数进行了优化,部分元素与采用电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS)定量分析的结果进行比较,对某些元素含量差别较大的原因进行了分析,论述了Element GD辉光放电质谱仪的特点及其在痕量杂质分析上的优势。

【Abstract】 Elements such as Ta,Mo,W in high-purity niobium were determined by glow discharge mass spectrometry(GD-MS).The operating parameters and conditions of GD-MS were optimized and selected.Results of a partion of elements determined by GD-MS were compared with those analyzed by inductive coupled plasma mass spectrometry(ICP-MS).The characteristics and advantages of trace element analysis by element GD-MS were discussed.

【基金】 国家科技支撑计划项目(2006BAF07B02)资助
  • 【文献出处】 分析试验室 ,Chinese Journal of Analysis Laboratory , 编辑部邮箱 ,2012年06期
  • 【分类号】TG115.33;O657.63
  • 【被引频次】8
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