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纳米折叠InGaN/GaN LED材料生长及器件特性  
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【英文篇名】 Growth and device characteristics of nano-folding InGaN/GaN multiple quantum well LED
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【作者】 陈贵锋; 谭小动; 万尾甜; 沈俊; 郝秋艳; 唐成春; 朱建军; 刘宗顺; 赵德刚; 张书明;
【英文作者】 Chen Gui-Feng1) Tan Xiao-Dong1) Wan Wei-Tian1) Shen Jun2) Hao Qiu-Yan1) Tang Cheng-Chun1) Zhu Jian-Jun3) Liu Zong-Shun3) Zhao De-Gang3) Zhang Shu-Ming3) 1)(Key Lab.for New Type of Functional Materials in Hebei Province; Hebei University of Technology; Tianjing 300130; China) 2)(Technical Institute of Physics and Chemistry; Chinese Academy of Sciences; Beijing 100190; China) 3)(State Key Laboratory of Integrated Optoelectronics; Institute of Semiconductors; Beijing 100083; China);
【作者单位】 河北工业大学材料学院河北省新型功能材料实验室; 中国科学院理化技术研究所; 中国科学院半导体研究所集成光电子学国家重点实验室;
【文献出处】 物理学报 , Acta Physica Sinica, 编辑部邮箱 2011年 07期  
期刊荣誉:中文核心期刊要目总览  ASPT来源刊  中国期刊方阵  CJFD收录刊
【中文关键词】 纳米柱LED; 光致发光; 电致发光;
【英文关键词】 nano-LED; photoluminescence(PL); electroluminescence(EL);
【摘要】 在以自组织Ni纳米岛为掩膜制作的n-GaN纳米柱上,利用MOCVD方法外延生长了具有折叠InGaN/GaN多量子阱(MQW)的LED结构外延片,进而制作了LED器件.外延片上中下游的光致荧光测试,结果表明外延片具有很好的均匀性.用该外延片制作的LED的电致发光谱,随注入电流增加没有明显蓝移,这表明纳米结构能更好地释放应力,纳米柱上外延生长的多量子阱,具有较低的压电极化电场.正向工作电流20mA时,LED器件的工作电压为4.6V.
【英文摘要】 GaN-based LED wafers with nano-folding InGaN/GaN multiple quantum wells(MQWs) are grown on n-GaN nanopillar array templates which are fabricated using self assembled Ni nanodots as etching mask.Photoluminescence(PL) spectra of the wafer show uniform light emission wavelength over the whole area of it.No blue shift of the main peak is observed in the electroluminescence(EL) spectra of the LED devices fabricated with the wafer as the injection current increases from 10 mA to 80 mA.This can be ascribed to the ...
【基金】 天津市自然科学基金(批准号:10JCYBJC03000); 中国科学院半导体研究所集成光电子国家重点实验室资助的课题~~
【更新日期】 2011-08-02
【分类号】 O471
【正文快照】 1.引言GaN基LED由于其寿命长,尺寸小,高效,节能等优点引起了人们的广泛关注,特别是在半导体照明领域.传统平板结构LED的InGaN/GaN量子阱中,由于InN和GaN之间较大的晶格失配,导致量子阱中会产生很强的压电场,由此产生的量子限制Stark效应[1],会引起能带倾斜,电子和空穴波函数的?

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