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GaAs抛光片在MOCVD中斑现象分析
【摘要】 为了解决2英寸低阻掺硅砷化镓单面抛光片在MOCVD中"白斑"、"暗斑"的质量问题,从不同公司加工的同一规格的抛光片中取样,分别进行了光荧光谱(PL)、二次离子质谱(SIMS)等测试。通过对这些测试结果进行综合分析,最终确定了造成产品出现"斑"现象的原因,通过改进工艺,向MOCVD用户提供了满足要求的砷化镓抛光片。
【关键词】 掺硅砷化镓单面抛光片；
光荧光谱(PL)；
二次离子质谱(SIMS)；
- 【文献出处】 天津科技 ,Tianjin Science & Technology , 编辑部邮箱 ,2011年06期
- 【分类号】TN304.23
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