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基板温度对电子束沉积LaF3薄膜紫外性能的影响
Substrate Temperature’s Effects on Ultraviolet Properties of LaF3 Films Prepared by Electron Beam Gun Evaporation
【摘要】 采用电子束沉积的方法,在紫外熔凝石英基片上制备了LaF3单层膜.研究了基板温度对LaF3薄膜紫外光学性能的影响,基板温度从200℃上升到300℃,间隔为50℃.采用分光光度计测量了样品的透射率光谱曲线,并在此基础上进行了光学常数的计算.分析结果表明:在本实验条件下,薄膜的折射率随温度的升高而增大;消光系数随温度的升高有增大的趋势;
【Abstract】 Using a electron beam gun evaporation method,LaF3 films were grown on fused quartz glass.The films were produced at different substrate temperature from 200℃ to 350℃ by increasing step of 50℃.The ultraviolet properties of the films have been determined by using ultraviolet spectrometry.Analysis results show: the refractive index and extinction coefficient increased with the increased substrate temperature
【关键词】 光学薄膜；
基板温度；
电子束沉积；
LaF3；
【Key words】 optical thin flms； substrate temperature； electron beam gun evaporation； LaF3；
【Key words】 optical thin flms； substrate temperature； electron beam gun evaporation； LaF3；
- 【文献出处】 聊城大学学报(自然科学版) ,Journal of Liaocheng University(Natural Science Edition) , 编辑部邮箱 ,2011年01期
- 【分类号】O484.41
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