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900V超结VDMOS的设计

Design of a 900 V Super Junction VDMOS

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【作者】 胡涛李泽宏张波

【Author】 HU Tao,LI Zehong,ZHANG Bo(State Key Lab of Electronic Thin Films and Integrated Device,Univ.of Elec.Sci.& Technol.of China,Chengdu 610054,P.R.China)

【机构】 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室

【摘要】 超结MOSFET具有优越的静态直流特性。在已有成功设计600 V超结VDMOS经验的基础上,提出了相应的工艺方法。利用TCAD仿真软件,对主要的工艺参数和器件电学参数进行仿真优化,得到击穿电压为929 V、比导通电阻为23.67 m Ω·cm2的超结VDMOS。

【Abstract】 Super junction MOSFET has been proved to have excellent static DC characteristics.A fabrication method for super junction MOSFET was proposed based on the design of a 600 V super junction VDMOS.Main process parameters and electrical parameters of the device were simulated and optimized by TCAD simulator,and super junction VDMOS transistors with a breakdown voltage of 929 V and a specific on-resistance of 23.67 mΩ·cm-2 were fabricated.

【关键词】 超结VDMOS功率MOSFET
【Key words】 Super junctionVDMOSPower MOSFET
  • 【分类号】TN386.1
  • 【被引频次】5
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