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影响抛光粉抛蚀率的因素
Effects Factors on Removal Rate of Polishing Powder
【摘要】 以抛蚀率作为评价抛光粉性能的指标。详细考察了铈基抛光粉的浆料浓度、抛光时间、抛光粉的灼烧温度、抛光体系的温度对ZF6型光学玻璃抛蚀率的影响。
【Abstract】 Removal rate is used as property index of evaluating polishing powder.The effects of slurry concentration,polishing time,calcinations temperature of cerium-based polishing powder and system temperature on ZF6-type optical glass is researched in detail.
【关键词】 抛光粉；
抛蚀率；
CeO2；
化学机械抛光；
【Key words】 Polishing powder； Removal rate； CeO2； Chemically mechanical polishing(CMP)；
【Key words】 Polishing powder； Removal rate； CeO2； Chemically mechanical polishing(CMP)；
【基金】 国家自然科学基金资助项目(20161002);江西省自然科学基金资助项目(2008GZC0021)
- 【文献出处】 有色金属(冶炼部分) ,Nonferrous Metals(Extractive Metallurgy) , 编辑部邮箱 ,2011年09期
- 【分类号】TQ171.429
- 【被引频次】8
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