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高分辨率投影光刻机光瞳整形技术

Pupil Shaping Techniques in High Resolution Projection Exposure Tools

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【作者】 胡中华杨宝喜朱菁肖艳芬曾爱军黄立华赵永凯黄惠杰

【Author】 Hu Zhonghua1,2 Yang Baoxi1 Zhu Jing1 Xiao Yanfeng1,2 Zeng Aijun1Huang Lihua1 Zhao Yongkai1 Huang Huijie11Laboratory of Information Optics and Optoelectronic Technology,Shanghai Institute of Optics andFine Mechanics,Chinese Academy of Sciences,Shanghai 201800,China2Graduate University of Chinese Academy of Sciences,Beijing 100049,China

【机构】 中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室中国科学院研究生院

【摘要】 在高分辨光学光刻技术中,光瞳整形技术针对不同的掩模图形产生特定的光瞳光强分布模式,从而实现分辨力增强,获得更好的成像性能。概述了高分辨率投影光刻机照明系统中基于衍射光学元件(DOE)、微透镜阵列(MLA)和微反射镜阵列(MMA)的3种光瞳整形技术,并对这些技术的工作原理、设计制作方法和性能特点进行了归纳与总结。

【Abstract】 In the high resolution optical lithography technology,illumination pupil shaping is employed to enhance the lithography resolution and achieve high imaging performance by using various illumination modes according to different mask structures.In this paper,three approaches of pupil shaping techniques based on diffractive optical element(DOE),micro lens array(MLA) and micro mirror array(MMA) are summarized.The principles,design and manufacturing methods are concluded.

【基金】 国家科技重大专项项目(2009ZX02205-001)资助课题
  • 【文献出处】 激光与光电子学进展 ,Laser & Optoelectronics Progress , 编辑部邮箱 ,2011年11期
  • 【分类号】O439;TN405
  • 【被引频次】9
  • 【下载频次】449
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