不同轰击能量下CrN硬质薄膜的生长方式和择优取向变化-中国学术期刊网络出版总库

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不同轰击能量下CrN硬质薄膜的生长方式和择优取向变化

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【英文篇名】	Evolution of growth and preferred orientation of CrN hard films under different ion bombardment energy
【下载频次】	★★★★★
【作者】	梁柔; 徐雪波; 鲍明东; 江利;
【英文作者】	LIANG Rou1; 2; XU Xuebo2; BAO Mingdong2; JIANG Li1(1.School of Material Science and Technology; China University of Mining and Technology; Xuzhou 221116; China; 2.Institute of Materials Engineering; Ningbo University of Technology; Ningbo 315016; China);
【作者单位】	中国矿业大学材料科学与工程学院; 宁波工程学院材料工程研究所;
【文献出处】	兵器材料科学与工程 , Ordnance Material Science and Engineering, 编辑部邮箱 2011年 02期期刊荣誉：中文核心期刊要目总览 ASPT来源刊 CJFD收录刊
【中文关键词】	CrN薄膜; 粒子轰击能量; 薄膜生长方式; 择优取向;
【英文关键词】	CrN films; ion bombardment energy; film growth; preferred orientation;
【摘要】	用闭合场非平衡磁控溅射离子镀(CFUBMIP)系统沉积制备CrN硬质薄膜,通过调节偏压改变薄膜沉积过程中离子轰击能量。采用XRD分析薄膜的相结构,结合SEM和AFM对薄膜表面形貌和截面结构的观察,探讨离子轰击能量对CrN硬质薄膜生长方式以及取向的影响规律。结果表明,随着偏压从-60 V增大到-90 V,薄膜始终由CrN单相组成,且均呈柱状生长,但生长择优取向从(200)向(111)转变。偏压的变化主要通过改变离子轰击能量影响薄膜的生长机制,低偏压时以表面能主导,因此呈(200)择优取向生长,而高偏压时以应变诱导生长机制为主,呈(111)择优取向生长。
【英文摘要】	CrN hard films were deposited by using closed field unbalanced magnetron sputtering ion plating system(CFUBMIP).Ion bombardment energy during film deposition was changed by moderating bias voltage.The microstructrue,surface morphology and cross-sectional structure of various CrN films were investigated by XRD,AFM,and SEM.The mechanism of growth and preferred orientation of CrN hard films under different ion bombardment energy were studied.Results show that film consists of CrN single phase with columnar gro...
【更新日期】	2011-04-28
【分类号】	TB383.2
【正文快照】	CrN薄膜由于Cr元素和钢中Fe的亲和力比较高,能提高膜基结合强度;Cr与氧的亲和力比较低,可提高薄膜抗氧化能力,同时Cr和N的低亲和力也可提高靶抗中毒性能。诸多的优点使CrN薄膜获得了越来越广泛的应用。不同制备方法获得CrN薄膜的性能具有较大的差别,众多文献对CrN薄膜的组成、?

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