节点文献

磁控溅射沉积二氧化钒薄膜及其电致相变特性研究

VANADIUM DIOXIDE THIN FILMS DEPOSITED BY MAGNETRON SPUTTERING AND ITS PHASE TRANSITION INDUCED BY ELECTRIC-FIELD

  • 推荐 CAJ下载
  • PDF下载
  • 不支持迅雷等下载工具,请取消加速工具后下载。

【作者】 张玲牟永强冯浩崔敬忠

【Author】 ZHANG Ling,MU Yong-qiang,FENG Hao,CUI Jing-zhong(National Key Lab.of Surface Engineering,Lanzhou Institute of Physics,Lanzhou 730000,China)

【机构】 兰州物理研究所表面工程技术国家级重点实验室

【摘要】 采用反应射频磁控溅射技术在熔融石英玻璃衬底上制备了组分单一的二氧化钒薄膜。在制备好的二氧化钒薄膜上使用半导体工艺制备了金属叉指电极,通过半导体测试仪测试其电致相变特性。结果表明,当电极上所加电压达到一定阈值时电流发生突变,即薄膜发生半导体-金属相变。

【Abstract】 vanadium dioxide thin films on fused quartz glass have been prepared directly by reactive magnetron sputtering methods.The electrodes were fabricated on the thin films using well-established semiconductor techniques,and an abrupt semiconductor-metal phase transition(SMPT) was observed in vanadium thin films when a static voltage applied onto the electrodes.

  • 【文献出处】 真空与低温 ,Vacuum and Cryogenics , 编辑部邮箱 ,2010年01期
  • 【分类号】O484.42
  • 【被引频次】4
  • 【下载频次】396
节点文献中: 

本文链接的文献网络图示:

本文的引文网络