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无卤无磷高性能覆铜板的开发

The Development of Halogen-free Phosphovus-free High Performance CCL

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【作者】 辜信实；

【Author】 GU Xing-shi

【机构】 广东生益科技股份有限公司；

【摘要】 文章重点介绍开发无卤无磷高性能覆铜板的技术背景、工艺路线及开发成果。

【Abstract】 This article introduces the background,technical route and achievement for the development of halogen-free,phosphovus-free high performance CCL.

【关键词】 无卤； 无磷； 高性能覆铜板；
【Key words】 halogen-free； phosphorus-free； high performance CCL；
  • 【文献出处】 印制电路信息 ,Printed Circuit Information , 编辑部邮箱 ,2010年06期
  • 【分类号】TN41
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