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沉积温度及其变化对金刚石膜内黑色缺陷产生过程的影响  
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【英文篇名】 Relation between changes in deposition temperature and formation of dark features in diamond films
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【作者】 姜春生; 刘政; 郭世斌; 李晓静; 唐伟忠; 吕反修; 郭辉;
【英文作者】 JIANG Chun-sheng1; LIU Zheng1; GUO Shi-bin1; LI Xiao-jing1; TANG Wei-zhong1; L Fan-xiu1; GUO Hui2(1.School of Materials Science and Engineering; University of Science and Technology Beijing; Beijing 100083; China; 2.Hebei Institute of Laser; Shijiazhuang 050081; China);
【作者单位】 北京科技大学材料科学与工程学院; 河北省激光研究院;
【文献出处】 材料热处理学报 , Transactions of Materials and Heat Treatment, 编辑部邮箱 2010年 03期  
期刊荣誉:中文核心期刊要目总览  ASPT来源刊  中国期刊方阵  CJFD收录刊
【中文关键词】 金刚石膜; 黑色缺陷; 孪晶; 电子背散射衍射;
【英文关键词】 diamond film; dark feature; electron backscattered diffraction; twin;
【摘要】 用高功率直流电弧等离子体喷射方法研究金刚石膜沉积温度稳定性对膜中黑色缺陷产生的影响。结果表明,在温度稳定条件下制备的金刚石膜中,黑色缺陷的密度较低;当沉积温度大幅度变化时,在膜中产生大量黑色缺陷。形成大量黑色缺陷的原因是:沉积温度变化时,在金刚石晶粒的表面形成贯穿型孪晶,而在随后的生长过程中,这些孪晶的长大将抑制金刚石膜局部生长环境中活化的反应气体与其下晶界位置的金刚石组织接触,导致其生长缓慢并保留在金刚石膜中,从而形成大量黑色缺陷。
【英文摘要】 Diamond film was prepared by DC arc plasma jet method and the effect of change of deposition temperature in the process of deposition on formation of dark feature was investigated. The result indicates that the lower density of dark feature is observed in the diamond film under stable temperature conditions.When the deposition temperature changes significantly, a large number of dark feature is formed. The cause is that penetration twins form when the deposition temperature is changed in the process of diam...
【基金】 国家自然科学基金(10675017); 高等学校博士学科点基金(20060008013)
【更新日期】 2010-04-12
【分类号】 TB383.2
【正文快照】 化学气相沉积方法(CVD)制备的金刚石膜具有非常高的硬度、宽的光谱透过范围以及高的热导率,是一种极佳的光学窗口材料[1-2]。但是,即使是在很高品质的金刚石膜中,仍常含有一种在透射光学显微镜下呈现为黑色的显微缺陷,文献中被称之为“darkfeatures”[3]。黑色缺陷的存在极大地

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