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二氧化硅及其牙膏的清洁性能研究
【摘要】 通过采用透射电镜微观观测及建立清洁值测试模型手段,测定不同类型的二氧化硅(Silicon dioxide)粉体的微观状态及使用其作为磨擦剂的牙膏的磨擦清洁性能,以便对配方设计进行正确的指导。
- 【文献出处】 牙膏工业 ,Toothpaste Industry , 编辑部邮箱 ,2009年01期
- 【分类号】TQ658.41
- 【被引频次】3
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【摘要】 通过采用透射电镜微观观测及建立清洁值测试模型手段,测定不同类型的二氧化硅(Silicon dioxide)粉体的微观状态及使用其作为磨擦剂的牙膏的磨擦清洁性能,以便对配方设计进行正确的指导。