节点文献

用体式显微镜研究SiC单晶中的微管缺陷

Micropipe Observation in Sublimation 6H-Sic By Optical Microscopy

  • 推荐 CAJ下载
  • PDF下载
  • 不支持迅雷等下载工具,请取消加速工具后下载。

【作者】 李劼章安辉何秀坤曹全喜秦涛

【Author】 Li Jie1,Zhang Anhui2,He Xiukun2,Cao Quanxi1,Qin Tao1(1.School of Technology Physics,Xidian University,Xi’an 710071,China;2.Quality Testing Center,46 Research Institute,Electronic Technology Corp.of China,Tianjin 300192,China)

【机构】 西安电子科技大学技术物理学院中国电子科技集团公司第46研究所质量检验中心

【摘要】 用拉曼光谱、X射线双晶衍射仪以及体式显微镜,对升华法生长的6H-SiC单晶品质、SiC单晶中的微管缺陷进行表征。通过对SiC单晶腐蚀前后的微管数目比较发现,微管尺寸和其所形成的腐蚀坑大小并不是呈线性关系,腐蚀前后用体式显微镜观察到的微管数目大致相等。从实验数据发现,微管的尺寸有最小值,这给SiC微管密度分布,提供了一种无损检测方法。

【Abstract】 A combination of Raman,X-ray diffraction and optical microscopy is used to characterize the quality of 6H-SiC by sublimation growth and mcropipes defects of SiC.A comparison of the numbers of micropipes before and after the etching of SiC shows that the dimension of etch pits is not linearly related to that of micropipes,and the number of micropipes observed in the optical microscopy before etching approximates that of mciropipes after etching.Experiment data shows that the size of micropipes has their lower limit,which offers an indamageable testing method for the density distribution of SiC micropipes.

【关键词】 KOH腐蚀微管SiC计数
【Key words】 KOH etchingmicropipeSiCcount
【基金】 国家重点基础研究发展规划资助项目(51327020102)
  • 【文献出处】 电子科技 ,Electronic Science and Technology , 编辑部邮箱 ,2009年05期
  • 【分类号】TN304.24
  • 【下载频次】293
节点文献中: 

本文链接的文献网络图示:

本文的引文网络