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半导体异质结界面处Sb/As交换反应研究

Sb/As Exchange at the Interface of Heterostructures

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【作者】 邱永鑫李美成熊敏张宝顺刘国军赵连城

【Author】 Qiu Yongxin1, Li Meicheng1, Xiong Min1, Zhang Baoshun2, Liu Guojun2, Zhao Liancheng1 (1. Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, China) (2. Changchun University of Science and Technology, Changchun 130022, China)

【机构】 哈尔滨工业大学长春理工大学

【摘要】 利用分子束外延(MBE)技术,在GaAs衬底上生长了高质量的GaAs/GaAsSb超晶格,并通过高分辨X射线衍射(HRXRD)技术对Sb/As交换反应进行研究。实验表明,随着衬底温度的升高,Sb解吸附速度增加,在Sb束流作用下形成的GaAs/GaAsSb超晶格中的Sb含量下降。而Sb束流大小和暴露在Sb束流中的时间对GaAs/GaAsSb超晶格中的Sb含量影响很小。这说明Sb与GaAs中的As原子的交换反应仅发生在GaAs表层,Sb原子在GaAs中的扩散距离很短。

【Abstract】 High quality GaAs/GaAsSb superlattices were grown by molecular beam epitaxy (MBE) and the Sb/As exchange action was characterized by high resolution X-ray diffraction (HRXRD). The Sb desorption from the GaAs surface increases with the increase of substrate temperature, causing a net decrease in Sb composition. The Sb flux and the Sb soak time have no obvious effects on the Sb/As exchange. It is shown that the exchange action was restrained on the surface and the Sb diffusion in GaAs was limited.

【关键词】 分子束外延异质结超晶格Sb/As交换反应
【Key words】 MBEheterostructuressuperlatticeSb/As exchange
【基金】 国家自然科学基金项目(50502014);教育部新世纪优秀人才计划资助项目(NCET)
  • 【文献出处】 稀有金属材料与工程 ,Rare Metal Materials and Engineering , 编辑部邮箱 ,2009年11期
  • 【分类号】TN304.355
  • 【被引频次】2
  • 【下载频次】81
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