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脑皮层厚度分析方法及其应用

Cortical thickness analysis method and its application

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【作者】 吕彬何晖光吕科赵明昌张志强卢光明

【Author】 LV Bin1, HE Hui-guang1, LV Ke2, ZHAO Ming-chang1, ZHANG Zhi-qiang3, LU Guang-ming3(1.The Key Laboratory of Complex Systemsand Intelligence Science, Institute of Automation, the Chinese Academy of Science, Beijing 100190, China; 2.Graduate University, the Chinese Academy of Science, Beijing 100049, China; 3. Department of Medical Imaging, Nanjing General Hospital of Nanjing Military Command, Nanjing 210002, China)

【机构】 中国科学院自动化研究所复杂系统与智能科学重点实验室中国科学院研究生院南京军区南京总医院医学影像科南京军区南京总医院医学影像科 北京100190北京100190北京100049江苏南京210002

【摘要】 本文系统描述了脑皮层厚度测量的后处理步骤以及相应的统计分析方法,并就该方法在脑发育和相关疾病中的具体应用进行了深入的讨论。最后,指出脑皮层厚度测量与分析方法的研究意义与潜在局限性。

【Abstract】 In this paper, we introduce the analysis methods after the cortical thickness is measured, and its some application on normal development as well as neurodegenerative and psychiatric diseases. At last, we point out the research value and the potential limitation of the cortical thickness measurement.

【基金】 国家自然科学基金面上项目(30670530,30670600);国家高技术研究发展计划(2007AA01Z327);国家自然科学基金创新群体项目资助(60621001);北京市科技新星计划(2007A094)
  • 【文献出处】 中国医学影像技术 ,Chinese Journal of Medical Imaging Technology , 编辑部邮箱 ,2008年07期
  • 【分类号】R741
  • 【被引频次】3
  • 【下载频次】295
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