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半导体二氧化钛光催化氧化的研究进展

Research progress of photocatalytic oxidation of semiconductor TiO2

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【作者】 段建田魏世强刘峰

【Author】 Duan Jiantian~1,Wei Shiqiang~(1,2),Liu feng (1.Depart of Environmental Science and Engineering,Southwest University,Chongqing 400715,China; 2.Key Laboratory of Agricultural Resources and Environment of Chongqing,Chongqing 400716,China; 3.Fire Department Command of the Chinese People’s Armed Police Forces Academy,Langfang 065000,China)

【机构】 西南大学 环境科学与工程系重庆市农业资源与环境重点实验室中国人民武装警察部队学院 消防指挥系

【摘要】 介绍了二氧化钛光催化氧化的基本原理,分析了光催化氧化的影响因素。阐述了光催化剂的固定方法及降解有机污染物的现状及发展方向,并提出了光催化氧化技术未来的发展趋势。

【Abstract】 The basic principle of TiO2 photocatalytic oxidation is introduced.The influencing factors for photocatalytic oxidation are analyzed.The catalyst fixed way and the present situation and development direction of degradating organic pollutants is expounded,and the development tendency of the photochemical catalysis oxidation technology is proposed.

  • 【文献出处】 化学工业与工程技术 ,Journal of Chemical Industry & Engineering , 编辑部邮箱 ,2008年05期
  • 【分类号】X703
  • 【被引频次】27
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