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用于EBIT装置的小型MEVVA源及其离子注入实验

Ion injection into EBIT with a miniature MEVVA ion sourse

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【Author】 ZHU Danfeng1 DU Guangtian1 GUO Panlin1 ZHU Zhouxia1 ZHU Xikai1 FU Yunqing2 HU Wei2 ZOU Yaming2 1 (Shanghai Institute of Applied Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China) 2 (Insititue of Modern Physics, Fudan University, Shanghai 200433, China)

【机构】中国科学院上海应用物理研究所；复旦大学现代物理研究所；复旦大学现代物理研究所上海201800；上海201800；上海200433；

【摘要】为给上海电子束离子阱(Electron Beam Ion Traps,EBIT)装置提供低电荷离子,我们研制了小型金属蒸汽真空弧(Metal Vapor Vacuum Arc,MEVVA)离子源,可产生多种金属以及半导体材料的低电荷离子。本文介绍小型MEVVA离子源的特性及其在上海EBIT装置上的离子注入实验。实验结果显示,合理控制注入参数可以使注入并被束缚在EBIT中的离子数密度达到108~109/cm3。更多还原

【Abstract】 A modified miniature metal vapor vacuum arc ion source has been developed for the Shanghai electron beam ion trap. Several kinds of elements were tested to extract lowly charged ions, such as Fe, Au, Ge and Ti. In this paper, we describe the design and features of the MEVVA. And experiment results of Au ions injection demonstrate that the Au ions were successfully injected and trapped in the drift tubes.更多还原

【关键词】 MEVVA离子源；电子束离子阱；离子注入；
【Key words】 MEVVA ion source； Electron beam ion traps； Ion injection；

【文献出处】核技术 ,Nuclear Techniques , 编辑部邮箱 ,2008年02期

【分类号】TL503.3
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