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均匀设计与GMA和MMA之间的关系

On Relations Between Uniform Design and Generalized Aberration,Moment Aberration

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【作者】 张裕鲁倩

【Author】 ZHANG Yu1,LU Qian2(1 School of Math and Statistics,Huazhong Normal Univ.,Wuhan 430079,China;2 School of Science,Wuhan Univ.of Technology,Wuhan 430070,China)

【机构】 华中师范大学数学与统计学院武汉理工大学理学院

【摘要】 给出了对称和非对称设计在两水平和三水平下,其可卷型偏差与广义字长型之间的关系,及它们之间的一个解析式.同时,也给出了对称设计在2水平下,其可卷型偏差与t阶矩之间的解析关系式.

【Abstract】 The connection between uniformity in the sense of wrap-Around L2-discrepancy(WD) and the generalized word length pattern is provided under the designs of two-level or three-level,which works for symmetrical and asymmetrical designs.Meanwhile,the analytic relation between WD-discrepancy and t th power moment is given under symmetrical designs of two-level.

【关键词】 阶矩均匀设计均匀性
【Key words】 discrepancyuniform designuniformity
【基金】 国家自然科学基金项目(10671080)
  • 【文献出处】 湖北工业大学学报 ,Journal of Hubei University of Technology , 编辑部邮箱 ,2008年05期
  • 【分类号】O212.6
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