节点文献

掺铜对DLC膜力学性能影响研究

Study on the Mechanical Properties of DLC Films Doped with Cu

  • 推荐 CAJ下载
  • PDF下载
  • 不支持迅雷等下载工具,请取消加速工具后下载。

【作者】 赵栋才任妮马占吉邱家稳肖更竭武生虎

【Author】 ZHAO Dong-Cai, REN Ni, MA Zhan-Ji, QIU Jia-Wen, XIAO Geng-Jie, WU Sheng-Hu (National Key Lab of Surface Engineering, Lanzhou Institute of Physics, Lanzhou 730000, China)

【机构】 兰州物理研究所表面工程技术国家重点实验室

【摘要】 利用纯铜靶作脉冲阴极,并改变碳阴极的数量或在铜靶前设置栅网调节DLC膜中铜含量,制备了不同铜含量的几组样品。研究发现,随着铜含量的增加,薄膜的硬度和应力下降;但当铜原子百分比含量大于6.3%时,薄膜的硬度和应力基本保持不变。摩擦因数随着铜含量的增加,一直缓慢增加,并且磨损量也慢慢增加。

【Abstract】 Samples with different Cu concentration were prepared by using pure Cu target and changing the number of graphite target,or adding a grid before the Cu target to adjust Cu concentration in DLC thin films. The results show that the hardness and stress decreases with an increase of Cu concentration (below 6.3 at.%). When Cu concentration increases from 6.3 at.% to 17.8 at.%, the hardness and stress keep almost constant, and the friction coefficient increases gradually and slowly, so for the wear loss.

【关键词】 类金刚石膜掺铜应力硬度
【Key words】 DLCfilmsCu-dopedstresshardness
  • 【文献出处】 中国表面工程 ,China Surface Engineering , 编辑部邮箱 ,2008年05期
  • 【分类号】O484.2
  • 【被引频次】12
  • 【下载频次】211
节点文献中: 

本文链接的文献网络图示:

本文的引文网络