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氧压对脉冲激光沉积Si基ZnO薄膜性能的影响
【摘要】 采用脉冲激光沉积法在Si(111)基片上制备了ZnO薄膜。利用X射线衍射、光致发光、扫描电子显微镜等表征技术研究了工作氧压对ZnO薄膜的结晶特性和光学性能的影响。研究结果表明,氧压的增大,有助于更多的氧原子进入晶格,有效减少薄膜中的缺陷和应力,使ZnO薄膜结构趋于完整,但是过高的氧压将严重地影响薄膜的沉积速率,加剧衬底Si的氧化,从而使薄膜的结晶质量恶化。所有的ZnO薄膜均显示出较强的紫外发光峰,并且结晶性与发光特性有很好的一致性。
【基金】 河北省自然科学基金(E2006001006);教育部新世纪优秀人才支持计划基金
- 【文献出处】 稀有金属 ,Chinese Journal of Rare Metals , 编辑部邮箱 ,2007年S2期
- 【分类号】TN304
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